Plasmaschweißverfahren sind seit Jahren in der Industrie etabliert. Dennoch erfahren sie aufgrund der immer komplexer werdenden Produktentstehungsprozesse eine sehr dynamische Weiterentwicklung. Dies gilt insbesondere bei der Auseinandersetzung mit neuen Materialien oder Anwendungen im stetig wachsenden Feld der additiven Fertigung.
Diese Arbeit stellt eine neue Variante des Plasma-Auftragschweißens vor, bei dem Plasma durch Mikrowellen im Frequenzband fA 2,45 GHz erzeugt wird. Das Plasma weist bemerkenswerte Eigenschaften auf. Es ist potentialfrei, sehr reaktiv und lässt sich punktgenau erzeugen, ohne signifikante Wärmeverluste in der Auftragsdüse in Kauf nehmen zu müssen. Die Arbeit beleuchtet sowohl anlagentechnische, theoretische als auch anwendungsspezifische Fragestellungen dieser neuen Technologievariante.