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New Trend in Applied Plasma Science and Technology

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Beschreibung

The topics of International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS) focus mainly on plasma applications, such as plasma materials processing, plasma propulsions, and energy applications, including applications in microelectronics and application to environmental problems, as well as applications of other high-energy sources. Authors in this proceedings cover a wide range of interdisciplinary scientific activities in the fields of energy, mechanical, electrical, material, and chemical sciences.

Produktinformationen

Titel:
New Trend in Applied Plasma Science and Technology
Untertitel:
The Seventh International Symposium on Applied Plasma
Editor:
Akira Kobayashi
,
Josef Krasa
,
Takeshi Miyasaka
EAN:
9780735408128
ISBN:
978-0-7354-0812-8
Format:
Fester Einband
Herausgeber:
Springer, Berlin
Genre:
Physik & Astronomie
Anzahl Seiten:
152
Gewicht:
641g
Größe:
H285mm x B221mm x T18mm
Jahr:
2010
Untertitel:
Englisch
Auflage:
1., 2010

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