Nach dem heutigen Stand der Technik werden mit dem Ionenstrahlzerstäubungsverfahren (engl. Ion Beam Sputtering - IBS) optische Dünnschichtsysteme mit geringsten Verlustraten realisiert, die höchste Qualitätsstandards erfüllen. Da das IBS-Verfahren in seiner bisherigen Konzeption relativ ausgereift ist, sind künftig nur inkrementelle Verbesserungen zu erwarten.
Mit dem Ziel das IBS-Verfahren dennoch zu verbessern, wird in dem vorliegenden Werk die Möglichkeit einer Erweiterung des IBS-Verfahrens durch die Implementierung eines Separatorkonzepts vorgestellt. Mit einem auf magnetischen Feldern basierenden Separationsverfahren ist es gelungen, die Qualität optischer Schichten durch eine Verminderung von Streuwerten zu steigern. Darüber hinaus wurde so eine Zugriffsmöglichkeit auf die Plasmaspezies geschaffen, womit neue Freiheitsgrade für Manipulationen der im IBS-Verfahren ablaufenden Prozesse eröffnet wurden. Diese Möglichkeiten verleihen dem modifizierten IBS-Prozess weitreichende Gestaltungsfreiheiten, mit denen Beschichtungsabläufe optimierbar sind.