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Patentgesetz

  • Fester Einband
  • 2327 Seiten
Klarheit von höchster Instanz Zum Werk Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung absolut unverzichtbare patenr... Weiterlesen
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Beschreibung

Klarheit von höchster Instanz Zum Werk Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung absolut unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Vorteile auf einen Blick - Erläuterung durch erfahrene Praktiker - gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard - Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes Zur Neuauflage Die 11. Auflage ist eine komplette Neubearbeitung, die sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht wird. Die Autoren, überwiegend Richter, haben vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenziertes und rechtsprechungsorientiertes Bild des aktuellen Rechts- und Meinungsstandes. Die Benutzer gewinnen hieraus wertvollen Aufschluss und werden in die Lage versetzt, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Gemeinschaftspatentübereinkommen (PCT) und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt. Der Kommentar berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts sowie das Gesetz zur Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des gewerblichen Rechtsschutzes, als auch das Einheitspatentgericht und die Einheitspatentverordnung. Zielgruppe Für Rechts- und Patentanwälte, Unternehmen, Gerichte, Referendare, Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Klappentext

Klarheit von höchster Instanz Zum Werk Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung absolut unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Vorteile auf einen Blick - Erläuterung durch erfahrene Praktiker - gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard - Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes Zur Neuauflage Die 11. Auflage ist eine komplette Neubearbeitung, die sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht wird. Die Autoren, überwiegend Richter, haben vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenziertes und rechtsprechungsorientiertes Bild des aktuellen Rechts- und Meinungsstandes. Die Benutzer gewinnen hieraus wertvollen Aufschluss und werden in die Lage versetzt, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Gemeinschaftspatentübereinkommen (PCT) und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt. Der Kommentar berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts sowie das Gesetz zur Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des gewerblichen Rechtsschutzes, als auch das Einheitspatentgericht und die Einheitspatentverordnung. Zielgruppe Für Rechts- und Patentanwälte, Unternehmen, Gerichte, Referendare, Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Produktinformationen

Titel: Patentgesetz
Untertitel: Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
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EAN: 9783406663598
ISBN: 978-3-406-66359-8
Format: Fester Einband
Herausgeber: Beck, C H
Genre: Handels- & Wirtschaftsrecht
Anzahl Seiten: 2327
Gewicht: 2049g
Größe: H248mm x B174mm x T55mm
Veröffentlichung: 01.09.2015
Jahr: 2015
Auflage: 11. A.
Land: DE

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