Die Herstellung ausgedehnter und hochgeordneter Strukturen im Sub-45nm-Bereich wird aufgrund der physikalischen Einschr ungen herk mmlicher Lithografiemethoden in der Zukunft eine gro Herausforderung darstellen. Diblockcopolymere (DBC) stehen seit ber 10 Jahren im Zentrum wissenschaftlicher Untersuchungen und sind gut verstanden. Der wissenschaftliche und industrielle Bedarf nach entwicklungsf gen Alternativen zu konventionellen Lithografie-techniken, die st igen Fortschritte in der Polymerchemie und ein zunehmendes Verst nis der Physik von DBC machen einen Einsatz als Masken f r die Sub-45nm-Lithografie unumg lich. Au rdem k nnen DBC ohne zus liche Entwicklungen oder Anlagen direkt in bestehende Prozesse implementiert werden. Grundlage dieser Arbeit war eine dreij ige Promotion am MPI f r Mikrostrukturphysik in Halle/S. Es wurden auf einer Vielzahl von Substraten hochgeordnete Strukturen mit Abst en im Sub-45nm-Bereich mittels PS-b-PMMA-Lithografie und im Sub-30nm-Bereich mittels PS-b-PVP+HABA-Lithografie hergestellt. Das Buch richtet sich sowohl an Naturwissenschaftler wie auch an Ingenieure aller technischer Disziplinen mit Bezug zu geordneten Nanostrukturen.

Autorentext

Danilo Zschech, Dr.-Ing.: Studium der Verfahrenstechnik an der FH-Lausitz/Senftenberg. Promotion am Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik/Halle.